Social Media Ideas for High Na Euv

ASML готовит литографию нового поколения — Hyper NA через 10 лет уменьшит элементы чипов более чем на треть

Преемник самой передовой технологии ASML для производства микросхем может появиться примерно через десять лет — на смену High NA EUV придёт Hyper NA EUV. Об этом написали в рецензи...

Клиенты ASML уже используют 10 сканеров High-NA EUV, позволяющие делать чипы «тоньше» 2 нм

Являясь крупнейшим контрактным производителем чипов в мире, тайваньская компания TSMC довольно консервативно настроена в отношении скорого внедрения оборудования класса High-NA EUV...

Intel обработала миллион 300-мм кремниевых пластин на оборудовании High-NA EUV

Компания Intel сообщила, что обработала один миллион 300-мм кремниевых пластин с использованием литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV) с высокой числовой аперт...

Langdao Silex Shows an EUV Light Source Prototype, Says Mass Production Is Three to Five Years Away

Shanghai-based Langdao Silex displayed an LPP extreme ultraviolet light source prototype at CIIF 2026. Its low-power system delivers over 15W, far below the hundreds of watts litho...

ASML and TSMC want bigger masks for smaller chips

Industry push aims to eliminate stitching constraints and ready high-NA EUV systems for production by 2033

China’s Domestic EUV Metrology Ecosystem Starts to Take Shape

Domestic teams are building a matrix of EUV light-source and measurement technologies as advanced chipmaking pushes inspection to 13.5nm wavelengths.

Новые материалы помогут EUV-литографии создавать чипы с элементами размером в несколько атомов

Источник: Компьютерра - Журнал о науке и технологиях Американские исследователи вместе с промышленными партнерами разрабатывают новые материалы для экстремальной ультрафиолетовой...

China’s new 0.1-nanometre electron microscope ready to challenge US and Japan

China is ready to commercialise a 200-kilovolt transmission electron microscope with an information resolution down to 0.1 nanometres that could introduce a new challenger into a m...

Fast nanoimprint process enables scalable production of achromatic metalenses

Researchers developed a high-index, low-shrinkage photoresist and rapid nanoimprint process that produces achromatic metalenses in just 15 minutes, supporting scalable manufacturin...

Китай показал собственный источник EUV-излучения для выпуска передовых чипов — до серийного производства ещё 3–5 лет

Китайская компания Langdao Silex впервые публично продемонстрировала прототип собственного источника излучения для EUV-литографии. По заявлению представителей компании, 90 % компон...

Nikon Launches DSP-110 Digital Lithography System with 1.5 �m Resolution

Nikon Corporation will release the DSP-110 digital lithography system for semiconductor advanced packaging in April 2027, featuring 1.5 �m resolution *1 (L/S *2 ) and through...

Space Telescope Interferometer to Image Exoplanet Continents

A NASA NIAC project will try to Mapping Alien Continents using formation-flying optical interferometer. Two hierarchical nullers ~100 km apart that first suppress the host star by...

ASML повысила цены на весь ассортимент комплектующих для литографического оборудования

Нидерландская компания ASML сообщила о 10-процентном повышении цен на поставки сменных деталей и комплектующих для литографического оборудования для южнокорейских компаний SK hynix...

TSMC, Samsung и ASML готовят переход с 6- на 12-дюймовые фотошаблоны

Источник: Компьютерра - Журнал о науке и технологиях ASML, производитель литографического оборудования, расширяет сотрудничество сразу с двумя ключевыми игроками — TSMC и Samsung....

ASML examining ways it can make more than 110 EUV tools in 2028, JPMorgan says

Производство передовых чипов ускорится — TSMC, Samsung и Intel договорились о переходе на увеличенные фотомаски

До сих пор считалось, что тайваньская TSMC на правах крупнейшего контрактного производителя чипов не особо торопилась осваивать литографическое оборудование с высоким значением чис...

ASML объяснила, почему не успевает за спросом на EUV-сканеры — та же сложность помогла ей обойти Nikon и Canon

Нидерландская компания ASML является крупнейшим в мире поставщиком передовых литографических сканеров, но для 43-летного производителя путь к этому статусу был долгим и сложным. Ны...

ASML: Samsung Adds Fuel To The Next EUV Growth Cycle (Rating Upgrade)