Latest updates for Euv-Литография

Fresh curated links around EUV-литография are collected here so marketers can spot useful updates and turn timely ideas into posts faster.

Recent items include:

  • Новые материалы помогут EUV-литографии создавать чипы с элементами размером в несколько атомов
  • Intel обработала миллион 300-мм кремниевых пластин на оборудовании High-NA EUV
  • Китай показал собственный источник EUV-излучения для выпуска передовых чипов — до серийного производства ещё 3–5 лет

Post angles to try

Share the most useful takeaway for your audience.
Turn one article into a quick practical checklist.
Ask your audience how this shift affects their work.
Turn angles into scheduled posts

Fresh articles and ideas

Recent curated links from global sources. Generate one free draft from any story, then use SocialBu to schedule and refine your content calendar.

computerra.ru /3 weeks ago

Новые материалы помогут EUV-литографии создавать чипы с элементами размером в несколько атомов

Источник: Компьютерра - Журнал о науке и технологиях Американские исследователи вместе с промышленными партнерами разрабатывают новые материалы для экстремальной ультрафиолетовой...

Read source
3dnews.ru /1 month ago

Intel обработала миллион 300-мм кремниевых пластин на оборудовании High-NA EUV

Компания Intel сообщила, что обработала один миллион 300-мм кремниевых пластин с использованием литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV) с высокой числовой аперт...

Read source
3dnews.ru /1 week ago

Китай показал собственный источник EUV-излучения для выпуска передовых чипов — до серийного производства ещё 3–5 лет

Китайская компания Langdao Silex впервые публично продемонстрировала прототип собственного источника излучения для EUV-литографии. По заявлению представителей компании, 90 % компон...

Read source
pandaily.com /1 week ago

Langdao Silex Shows an EUV Light Source Prototype, Says Mass Production Is Three to Five Years Away

Shanghai-based Langdao Silex displayed an LPP extreme ultraviolet light source prototype at CIIF 2026. Its low-power system delivers over 15W, far below the hundreds of watts litho...

Read source
3dnews.ru /1 month ago

Клиенты ASML уже используют 10 сканеров High-NA EUV, позволяющие делать чипы «тоньше» 2 нм

Являясь крупнейшим контрактным производителем чипов в мире, тайваньская компания TSMC довольно консервативно настроена в отношении скорого внедрения оборудования класса High-NA EUV...

Read source
3dnews.ru /2 weeks ago

ASML готовит литографию нового поколения — Hyper NA через 10 лет уменьшит элементы чипов более чем на треть

Преемник самой передовой технологии ASML для производства микросхем может появиться примерно через десять лет — на смену High NA EUV придёт Hyper NA EUV. Об этом написали в рецензи...

Read source
computerra.ru /1 month ago

TSMC, Samsung и ASML готовят переход с 6- на 12-дюймовые фотошаблоны

Источник: Компьютерра - Журнал о науке и технологиях ASML, производитель литографического оборудования, расширяет сотрудничество сразу с двумя ключевыми игроками — TSMC и Samsung....

Read source
3dnews.ru /1 month ago

Китайские учёные нашли путь к 3-нм чипам в обход санкций и EUV-литографии

Китайские исследователи наметили путь к выпуску транзисторов класса 3 нм с использованием глубокой ультрафиолетовой литографии (DUV) вместо более современной EUV. Разработка пока н...

Read source
pandaily.com /1 month ago

China’s Domestic EUV Metrology Ecosystem Starts to Take Shape

Domestic teams are building a matrix of EUV light-source and measurement technologies as advanced chipmaking pushes inspection to 13.5nm wavelengths.

Read source
computerra.ru /1 month ago

В Китае нашли способ создавать 3-нм чипы без EUV-литографии

Источник: Компьютерра - Журнал о науке и технологиях Исследователи Китайской академии наук представили новую архитектуру транзистора с круговым затвором — GAA. Устройство изготови...

Read source
3dnews.ru /1 month ago

Производство передовых чипов ускорится — TSMC, Samsung и Intel договорились о переходе на увеличенные фотомаски

До сих пор считалось, что тайваньская TSMC на правах крупнейшего контрактного производителя чипов не особо торопилась осваивать литографическое оборудование с высоким значением чис...

Read source
3dnews.ru /1 month ago

Китай отстаёт от ASML на 15 лет — и страна вряд ли освоит EUV-литографию раньше 2040 года

С 2019 года нидерландская ASML лишена права поставлять передовое EUV-оборудование для производства чипов в Китай, и она фактически не поставила туда ни одного литографического скан...

Read source
3dnews.ru /1 month ago

Все EUV-сканеры ASML расписаны до конца 2027 года — компания начала строительство нового завода

Контролируя примерно 94 % рынка литографических сканеров, которые необходимы для выпуска полупроводниковых компонентов, компания ASML вынуждена признать, что в условиях бума ИИ не...

Read source
3dnews.ru /1 week ago

Маск снова торопится: дорогущий EUV-сканер для Terafab могут поставить раньше, чем завод достроят

Проект Илона Маска (Elon Musk) Terafab может получить первую установку для EUV-литографии уже в середине следующего года. Строительство корпуса предприятия завершится лишь в конце...

Read source
3dnews.ru /3 weeks ago

ASML объяснила, почему не успевает за спросом на EUV-сканеры — та же сложность помогла ей обойти Nikon и Canon

Нидерландская компания ASML является крупнейшим в мире поставщиком передовых литографических сканеров, но для 43-летного производителя путь к этому статусу был долгим и сложным. Ны...

Read source
3dnews.ru /1 month ago

«Это лишь вопрос времени»: Дженсен Хуанг предсказал, что Китай освоит передовую литографию к 2030 году

С 2019 года поставки литографического оборудования ASML со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) в Китай запрещены, и по официальным каналам ни одной такой системы в стран...

Read source
computerra.ru /1 month ago

Huawei представила Kirin 9050 Pro с 3D-укладкой на DUV вместо EUV-литографии

Источник: Компьютерра - Журнал о науке и технологиях Huawei анонсировала трехскладной смартфон Mate X2. Главная техническая интрига — не в форм-факторе, а внутри: устройство работ...

Read source
quantumcomputingreport.com /1 month ago

Xanadu and ASML Partner to Optimize Lithography Processes for Ultra-Low-Loss Quantum Photonics

Xanadu Quantum Technologies and ASML are collaborating to improve lithography processes for quantum photonics, aiming to reduce optical signal loss in silicon photonic circuits. Th...

Read source
3dnews.ru /3 weeks ago

Китай запасся сотнями литографов ASML — их хватит для массового выпуска 7-нм ИИ-ускорителей на годы вперёд

Китайские производители чипов накопили сотни иммерсионных литографических установок ASML, работающих в глубоком ультрафиолете (DUV). Хотя они уступают передовым EUV-системам, такое...

Read source
theregister.com /1 month ago

ASML and TSMC want bigger masks for smaller chips

Industry push aims to eliminate stitching constraints and ready high-NA EUV systems for production by 2033

Read source
3dnews.ru /2 weeks ago

ASML повысила цены на весь ассортимент комплектующих для литографического оборудования

Нидерландская компания ASML сообщила о 10-процентном повышении цен на поставки сменных деталей и комплектующих для литографического оборудования для южнокорейских компаний SK hynix...

Read source
3dnews.ru /1 month ago

Huawei собирает ASML у себя дома: SMIC уже тестирует китайские DUV-сканеры

В 2019 году компания Huawei Technologies первой приняла на себя удар американских санкций в технологической сфере, а потому принято считать, что за прошедшие годы она стала своего...

Read source
3dnews.ru /1 week ago

За литографами — очередь до 2030 года: ASML не успевает за аппетитами ИИ-индустрии

В условиях бума ИИ компания ASML не сможет удовлетворить спрос на своё оборудование ни в 2027, ни в 2028 году. Фактически, она уже сейчас начинает принимать заказы на поставку обор...

Read source
webwire.com /4 days ago

Selected for NEDO's "Research and Development Project of the Enhanced Infrastructures for Post-5G Information and Commun...

Nikon Corporation is pleased to announce that it has been selected for the "Research and Development Project of the Enhanced Infrastructures for Post-5G Information and Communicati...

Read source

Turn fresh research into a full content calendar

Use SocialBu to discover ideas, generate post drafts, and schedule them across your social channels.

Sources covering Euv-Литография

rssfeeds.webwire.com

Recent coverage from public sources
Public source

3dnews.ru

Recent coverage from public sources
Public source

pandaily.com

Recent coverage from public sources
Public source

quantumcomputingreport.com

Recent coverage from public sources
Public source

computerra.ru

Recent coverage from public sources
Public source

theregister.co.uk

Recent coverage from public sources
Public source