Новые материалы помогут EUV-литографии создавать чипы с элементами размером в несколько атомов
Источник: Компьютерра - Журнал о науке и технологиях Американские исследователи вместе с промышленными партнерами разрабатывают новые материалы для экстремальной ультрафиолетовой...